高感度&ダイナミックレンジ
- 高感度UV-SWIR
- 大型画素ウェル深さ
- 高解像度マトリクス
分子・原子光学分光法は、特定の特性に関連する幅広い人工材料の化学的/元素的、構造的および/または光学的特性を決定するための、極めて特異的で非侵襲的な手段を提供します。
Andorのモジュラー分光器、高感度CCD、EMCCD、ICCD、 InGaAs、sCMOs検出器により、研究者は主にラマン分光法、レーザー誘起破壊分光法(LIBS)、発光・蛍光分光法、または吸収・透過・反射分光法を用いたプロービング技術を用いて、ナノスケールからマクロスケールまでの分析課題に高い精度と再現性をもって取り組むことが可能となります。
さらに、Andorは先端材料科学(半導体量子素子を含む)向けの分光ソリューションを提供しています。
レーザー誘起破壊分光法(LIBS)は、パルスレーザーによるターゲットの微小アブレーションから生じるプラズマ発光を分析することで、試料の元素・化学組成に関する情報を提供します。 金属のグレード判定、各種人工材料中の元素濃度や比率の測定、材料マトリックス中の不純物や閉じ込められた物質(例:核融合炉/トカマクのプラズマ接触壁に吸着した物質)の同定などに利用できます。
高速ゲートICCDと組み合わせたEchelle分光器は、高スペクトル分解能と数百ナノメートルに及ぶ非常に広いスペクトル帯域幅を同時に提供するため、LIBS分析に特に適しています。
当社のアプリケーションスペシャリストに問い合わせるこの非侵襲的なレーザー散乱分光法は、試料の分子情報(組成、構造)を提供します。温度変化/衝撃、機械的応力など様々な外部要因による材料マトリックスの破壊効果を評価したり、不純物、吸着分子、欠陥が材料の機械的特性に及ぼす影響を特定・理解するために利用できます。
有機種を含む材料の場合、ラマン信号は試料からの蛍光と競合します。近赤外レーザーまたはUVレーザー(分子の吸収範囲外の波長)を使用することで、不要な蛍光寄与を大幅に低減または抑制できます。
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